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裝飾鍍膜機
    發佈時間: 2021-02-17 14:10    
裝飾鍍膜機

裝飾鍍鍍膜機
採用AIP電弧離子鍍和中頻磁控濺射技術
磁控靶：同軸定向圓柱靶或平面靶
獲得更高鍍膜質量，更好的表面光潔度、膜層緻密性、耐腐蝕性等




技術參數：
真空室內尺寸：φ1350x1500
                      φ1600x1350

極限真空度：5×10-4Pa

空恢時間：大氣抽到6.7×10-3Pa≤20min

壓升率：≤0.5Pa/h

佔地空間：L3.9×W4.8×H2.5m3

裝機容量：約300Kw


主要配置：

弧源：6/8/10/14套（φ95小弧源）

離子源：霍爾離子源（選配）

中頻磁控陰極：4對（選配）

使用溫度：200~350℃

工件架：行星公自轉結構

真空室冷卻方式：水套、水槽冷卻

控制方式：PLC/觸摸屏控制

進氣控制：4路

脈衝偏壓：40KW

弧電源：160/200A


真空系統配置：

高真空泵：F-3600分子泵   
               或 KT-600擴散泵

預抽泵： 2XT-70旋片泵   
              RTO-300羅茨泵   

維持泵：2XT-70旋片泵 或 2XT-30旋片泵 


公司所生產的真空鍍膜機均採用觸摸屏和PLC計算機自動控制系統。系統分爲手動和自動兩種控制方式，可隨時任意切換。對設備的運行參數進行實時監控顯示，保證了塗層質量的重複性。設備均設有完備的互鎖保護和報警功能，控制系統存儲器可儲存多套工藝參數，免除了每次切換工藝，工藝人員都需要重新輸入工藝參數的工作。