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PVD-DLC鍍膜機
    發佈時間: 2021-02-17 13:56    
PVD-DLC鍍膜機　　

　　該設備具有操作方便，裝載量大，工作週期短，生產率高等優點，適合工業化批量生產。






  技術參數：

     真空室尺寸：φ1000×1000

     極限真空度：6.7×10-5Pa

     空恢時間：大氣抽到6.7×10-3Pa≤40min

     壓升率：≤0.5Pa/h

     佔地空間：L4×W3.1×H2.6m3

     裝機容量：170KW


     主要配置：

     陰極濺射源：平面陰極

     離子源：陽極層離子源

     使用溫度：100~200℃

     工件架：（1）可移出式複合轉架，齒輪傳動，配備裝卸車
                  （2）固定轉架


     真空室冷卻方式：水套、水槽冷卻

     控制方式：Q系列PLC，15寸觸摸手動-自動控制系統。

     進氣控制：4路（混氣後分4路均勻供氣）

     脈衝偏壓：3000V,20KW

     主要膜層：DLC

     膜層特點：低摩擦係數，耐蝕性好，適用於Cu、Al、玻璃纖維等材料的加工

     真空系統配置：

     高真空泵：FF-3500分子泵

     預抽泵： RVP-25直聯泵 
                 RTO-150羅茨泵  

     維持泵： RVP-18直聯泵